Cientifica, ISSN 2594-2921, vol. 25, no. 2, July-December 2021.
DOI: 10.46842/ipn.cien.v25n2a03
Máquina de recubrimiento de pulverización catódica PVD
PVD sputtering coating machine
Recibido 02-12-2021, aceptado 31-03-2021.
Resumen
En este trabajo se abordará el diseñó de una máquina a escala de depósitos por pulverización catódica (PVD) para uso estudiantil. Esto a partir de la generación y focalización de plasma de manera controlada en un sistema de vacío con el apoyo de un sistema de alto voltaje. Por medio de este diseño se consiguió realizar un depósito de aluminio visible sobre sustratos de vidrio durante una ronda sencilla de pruebas. Este tipo de sistema puede abrir las puertas a proyectos futuros en tecnología de materiales, así como la investigación en áreas como la óptica o la tribología a nivel universitario.
Abstract
This work will address the design of a small-scale machine for sputtering tanks (PVD) for student use. This from the generation and focusing of plasma in a controlled way in a vacuum system with the support of a high voltage system. Through this design it was possible to make a visible aluminum deposit on glass substrates during a simple round of tests. This type of system can open the doors to future projects in materials technology, as well as research in areas such as optics or tribology at the university level.
Palabras clave: depósito de material, PVD, plasma, tecnología de materiales..
Index terms: material deposition, PVD, plasma, materials technology.
ISO 690 reference:
Rodriguez-Valencia, Sergio Arturo;
Nava-Tellez, Iyari Alejandro;
Elias-Espinosa; Milton Carlos,
2021,
Máquina de recubrimiento de pulverización catódica PVD,
Científica, Revista Mexicana de Ingeniería Electromecánica y de Sistemas, vol. 25, no. 2,
ISSN 2594-2921, e250203,
DOI: 10.46842/ipn.cien.v25n2a03
